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18. Lithographie-Workshop des Fraunhofer IISB

Dieser Workshop bringt Experten aus verschiedenen Bereichen der Lithographiesimulation zusammen. Der Lithographie-Workshop des Fraunhoer IISB bietet eine hervorragende Gelegenheit, Ideen auszutauschen und Ergebnisse und Entwicklungen in verschiedenen Bereichen zu diskutieren.

Inhalte

  • Computergestützte EUV-Lithographie: 3D-Maske, hohe NA- und stochastische Effekte, Techniken zur Auflösungsverbesserung, neuartige Masken- und Resist-Metarials und -Phänomene
  • Computermetrologie und Bildgebung für die Lithographie: Deep Learning und verwandte Techniken, Maskencharakterisierung, hybride optische Modelle, SEM-Modellierung, Big Data und neuartige Methoden zur Prozesscharakterisierung
  • Alternative (optische) Lithographiemethoden: Laserdirektschreiben, Interferenzlithographie, Maskenausrichter, 3D-Lithographie und Grautontechniken

Agenda

  • Bekanntgabe erfolgt Anfang Juli

Zielgruppe

  • Forscher
  • Ingenieure
  • Studierende mit Interesse an Lithographie

Über den Veranstalter

Das Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementetechnologie IISB verfügt über jahrzehntelange Erfahrung in angewandter Forschung auf den Gebieten der Halbleiter und intelligenter Leistungselektronik.

Der Workshop wird gesponsert von SAOT https://www.saot.fau.de

Veranstalter

Fraunhofer-Institut für Integrierte Systeme und Bauelementtechnologie IISB

Adresse

Schottkystrasse 10, 91058 Erlangen

Telefon

+49 9131 761 258

Veranstaltungsdetails

Ort

Preis

Reguläre Teilnehmer:
950,00 EUR plus 19% MwSt.

Studierende:
450,00 EUR plus 19% MwSt.

Datum

10. – 12. September 2020

Sprache

Englisch

Referent

Forscher und Experten aus dem Feld der Lithographie, Optik und Chemie

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